高固含量低粘度聚酰亞胺納米研磨機的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機艺沼，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒）蕴掏，所以在很多場合下障般，它用于均質(zhì)機的道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化.漿料的分散中盛杰，顆粒粒徑并非越細越好挽荡，要視漿料的特性而定。分散就是要根據(jù)物料的特性與特點即供，減小分散相顆粒的粒度定拟，使其分布于一個較窄的尺寸范圍，并達到吸力與斥力的相互平衡逗嫡，從而保證漿料體系的穩(wěn)定青自。

影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點 

1 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大剔难，效果越好）

2 膠體磨頭的齒形結構（分為初齒房待，中齒萌庆，細齒衰猛，超細齒纯命，約細齒效果越好）

3 物料在研磨腔體的停留時間稿存，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機雌续，流量越小怀喉，效果越好）

4 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好获高，到設備的期限哈肖，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知谋减，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距牡彻。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

高固含量低粘度聚酰亞胺納米研磨機CM2000系列是門為膠體溶液生產(chǎn)所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)出爹。CM2000的線速度很高庄吼，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候严就，形成的摩擦力就比較劇烈总寻，結果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形梢为，具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽渐行。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下铸董，凹槽在每都可以改變方向祟印。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求粟害。

三錯齒結構的研磨轉(zhuǎn)子蕴忆，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM悲幅。所以可以達到更好的分散濕磨效果套鹅。

更新時間：2024/8/29 15:16:12

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