納米氧化鋅半導(dǎo)體漿料催化劑研磨分散機(jī)CMSD2000/05

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原料藥濕磨機(jī)

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高速濕法粉碎機(jī): 濕法粉碎機(jī); 超微粉碎機(jī)

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高速沉析機(jī)

凝膠粉碎機(jī)

產(chǎn)品展示

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產(chǎn)品名稱：納米氧化鋅半導(dǎo)體漿料催化劑研磨分散機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)：CMSD2000/05
產(chǎn)品價(jià)格：0
產(chǎn)品產(chǎn)地：中國大陸
訪問次數(shù)：162 發(fā)布時(shí)間：2024/7/25 8:06:12
簡介內(nèi)容：納米氧化鋅半導(dǎo)體漿料催化劑研磨分散機(jī),納米金屬氧化物材料高速研磨分散機(jī),新型半導(dǎo)體材料高速研磨分散機(jī),在線式高速研磨分散機(jī)
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納米氧化鋅半導(dǎo)體漿料催化劑研磨分散機(jī)

納米氧化鋅半導(dǎo)體漿料催化劑研磨分散機(jī),納米金屬氧化物材料高速研磨分散機(jī),新型半導(dǎo)體材料高速研磨分散機(jī),在線式高速研磨分散機(jī)

納米氧化鋅是一種多功能性的新型無機(jī)材料，其顆粒大小約在1～100納米前弯。由于晶粒的細(xì)微化忱辅，其表面電子結(jié)構(gòu)和晶體結(jié)構(gòu)發(fā)生變化，產(chǎn)生了宏觀物體所不具有的表面效應(yīng)骑祟、體積效應(yīng)厉斟、量子尺寸效應(yīng)和宏觀隧道效應(yīng)以及高透明度耽装、高分散性等特點(diǎn)秕铛。近年來發(fā)現(xiàn)它在催化谴返、光學(xué)寇钉、磁學(xué)歇盼、力學(xué)等方面展現(xiàn)出許多特殊功能攘烛，使其在陶瓷魏滚、化工、電子坟漱、光學(xué)鼠次、生物、醫(yī)藥等許多域有重要的應(yīng)用價(jià)值芋齿，具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途腥寇。納米氧化鋅在紡織、涂料等域可用于紫外光遮蔽材料觅捆、抗菌劑赦役、熒光材料、光催化材料等栅炒。由于納米氧化鋅一系列的優(yōu)異性和十分誘人的應(yīng)用景掂摔，因此研發(fā)納米氧化鋅已成為許多科技人員關(guān)注的焦點(diǎn)庸论。

氧化鋅是一種半導(dǎo)體催化劑的電子結(jié)構(gòu)，在光照射下棒呛，當(dāng)一個(gè)具有一定能量的光子或者具有超過這個(gè)半導(dǎo)體帶隙能量Eg的光子射入半導(dǎo)體時(shí)聂示，一個(gè)電子從價(jià)帶VB激發(fā)到導(dǎo)帶CB，而留下了一個(gè)空穴簇秒。激發(fā)態(tài)的導(dǎo)帶電子和價(jià)帶空穴能夠重新結(jié)合消除輸入的能量和熱鱼喉，電子在材料的表面態(tài)被捕捉，價(jià)態(tài)電子躍遷到導(dǎo)帶趋观，價(jià)帶的空穴把周圍環(huán)境中的羥基電子奪過來使羥基變成自由基扛禽，作為強(qiáng)氧化劑而完成對(duì)有機(jī)物（或含氯）的降解，將病菌和病毒殺死皱坛。

所謂納米分散是指采用各種原理编曼、方法和手段在特定的液體介質(zhì)（如水）中，將干燥納米粒子構(gòu)成的各種形態(tài)的團(tuán)聚體還原成一次粒子并使其穩(wěn)定剩辟、均勻分布于介質(zhì)中的技術(shù)掐场。納米粉體的表面改性則是在納米分散技術(shù)基礎(chǔ)上的擴(kuò)展和延伸，即根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)合的需要贩猎，在已分散的納米粒子表面包覆一層適當(dāng)物質(zhì)的薄膜或使納米粒子分散在某種可溶性固相載體中熊户。經(jīng)過表面改性的納米干粉體，其吸附吭服、潤濕嚷堡、分散等一系列表面性質(zhì)都會(huì)發(fā)生變化障陶，一般可以自動(dòng)或易分散在特定的介質(zhì)中棺滞，因此使用非常方便。現(xiàn)有的納米金屬氧化物的工業(yè)合成方法碱工，一般為直接沉淀和均勻沉淀法沼琉，然而采用直接沉淀法合成的納米金屬氧化物粒徑分布較寬北苟，分散性差，洗除陰離子較為困難刺桃；采用均勻沉淀法則反應(yīng)時(shí)間長粹淋，能耗大。因此瑟慈，還需要開發(fā)新型的合成納米金屬氧化物的方法桃移。

研磨分散機(jī)，顧名思義葛碧，是研磨機(jī)和分散機(jī)的結(jié)合體借杰。它是經(jīng)過依肯眾多實(shí)驗(yàn)并總結(jié)后全新研發(fā)出的一類設(shè)備，是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)进泼，添加了分散機(jī)的分散盤蔗衡，使其在膠體磨研磨轉(zhuǎn)子的高速（高轉(zhuǎn)速21000轉(zhuǎn)）研磨作用下瞬間進(jìn)入分散盤中進(jìn)行高剪切分散想括，同時(shí)由于在整個(gè)過程中除了有高速研磨作用及高剪切分散作用下含潘，物料還同時(shí)承受著高頻的液力剪切瓦堵、離心擠壓借帘、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等多種作用力济蝉，因此經(jīng)IKN上海依肯研磨分散機(jī)研磨分散后漿料是均一杰刽、穩(wěn)定、精細(xì)的高品質(zhì)產(chǎn)品王滤！

傳統(tǒng)的高速分散機(jī)（轉(zhuǎn)速2930轉(zhuǎn)）也即是高速攪拌機(jī)贺嫂，是將攪拌機(jī)插入罐中對(duì)物料進(jìn)行高速攪拌，由于這只是一個(gè)局部的攪拌雁乡，剪切中作用力弱第喳、對(duì)物料的剪切頻率少，因此常會(huì)抱團(tuán)踱稍、分層曲饱、分散不均，影響產(chǎn)品品質(zhì)及性能寞射，而上海依肯高速納米研磨分散機(jī)是將物料進(jìn)行一個(gè)全局充分的混合分散剪切渔工，物料從儲(chǔ)料罐中進(jìn)入到工作腔體進(jìn)行360度高頻次的剪切锌钮、分散桥温、撞擊、摩擦梁丘，因此物料更細(xì)侵浸、分散穩(wěn)定性更好。當(dāng)然還有設(shè)備加工經(jīng)度氛谜、物料粘稠度掏觉、物料原始粒徑、溫度值漫、是否有添加劑等眾多影響因素澳腹。

CMSD高速研磨分散機(jī)選型表:

高速研磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD 2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7,200	41	22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%杨何。