納米球形二氧化硅研磨分散機(jī)，納米球形二氧化硅高剪切分散機(jī)，球形硅微粉分散機(jī)瘩燥，球形二氧化硅漿料高剪切研磨分散機(jī)溢豆，被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力（可有泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力眯搭，通過高速研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力虑粥、摩擦力很洋、高頻振動(dòng)等物理作用底哗，使物料被有效的乳化岁诉、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果跋选。得到粒度分布均勻涕癣、球形度高、球形納米粒子無團(tuán)聚前标。

納米球形二氧化硅也稱納米球形硅微粉坠韩，是一種無毒、無味炼列、無污染的無定型白色粉末,粒徑通常為1nm-100nm,由于其具備粒徑小只搁、純度高、分散性好俭尖、比表面積大氢惋、導(dǎo)熱系數(shù)低、熱膨脹系數(shù)低稽犁、化學(xué)性能穩(wěn)定焰望、耐腐蝕等優(yōu)越性能而具有廣闊的發(fā)展景。

納米球形二氧化硅主要應(yīng)用于大規(guī)模集成電路封裝,液體灌封膠缭付、芯片粘接柿估、基板材料、絕緣材料陷猫，用填料在航空秫舌、航天的妖、涂料、油漆足陨、粘結(jié)劑嫂粟、催化劑、醫(yī)藥墨缘、精密鑄造星虹、高檔陶瓷、高壓元器件及日用化妝品等技術(shù)域也有應(yīng)用镊讼，因此,硅微粉的納米球形化已成為粉體材料研究的關(guān)鍵點(diǎn)宽涌。目,制備納米球形二氧化硅的方法有很多種,主要可分為氣、液蝶棋、固相三類卸亮。氣相法主要是利用四氯化硅在高溫氫氧焰下水解生成納米球形氧化硅，制備的納米球形氧化硅稱為氣相白炭黑玩裙，這種納米氧化硅的球形率差兼贸、球形顆粒不均勻，納米顆粒團(tuán)聚嚴(yán)重吃溅，分散粒度達(dá)到幾微米到幾十微米溶诞，分散使用時(shí)無法達(dá)到納米原始顆粒分散；固相法主要包括高溫熔融法和等離子體法决侈；液相法主要包括化學(xué)沉淀法螺垢、溶膠-凝膠法和微乳液法。液相法制備的納米球形氧化硅也存在嚴(yán)重團(tuán)聚的現(xiàn)象赖歌，一種利用有機(jī)硅和水水解甩苛，經(jīng)過干燥-破碎-煅燒-研磨-過篩等工序，制備納米氧化硅團(tuán)聚無法達(dá)到納米分散使用俏站。另一種也是利用有機(jī)硅水解、溶膠－凝膠化痊土，再將凝膠烘干肄扎，高溫處理，即得到大量白色的納米球狀二氧化硅粉體赁酝，納米球形二氧化硅合成的漿料中含有水分和羥基犯祠，干燥、煅燒過程必然導(dǎo)致納米球形顆粒的團(tuán)聚酌呆，終產(chǎn)品是納米粒子的團(tuán)聚體衡载，即使后續(xù)各種破碎工藝也無法完全使納米顆粒分散，使粉體后續(xù)使用無法完全分散隙袁，達(dá)不到納米顆粒應(yīng)用條件痰娱，如何解決納米球形二氧化硅的團(tuán)聚問題是目納米球形二氧化硅制備和使用的關(guān)鍵問題弃榨。

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納米球形二氧化硅高速研磨分散機(jī)， 線速度很高坡贺，剪切間隙非常小官辈，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈遍坟，結(jié)果就是通常所說的濕磨拳亿。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽愿伴。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離肺魁。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向公般。第二組由轉(zhuǎn)定子組成万搔。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力（可有泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力官帘，通過高速研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力瞬雹、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用刽虹，使物料被有效的乳化酗捌、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果涌哲。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子胖缤，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求阀圾。

影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)： 
1 研磨和分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 研磨和分散頭的剪切速率 （越大哪廓，效果越好）
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒初烘，細(xì)齒涡真，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在研磨分散腔體的停留時(shí)間肾筐，研磨均質(zhì)時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)哆料，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多吗铐，效果越好东亦，到設(shè)備的期限，就不能再好）

CMSD2000系列研磨分散機(jī)參數(shù)選型表 

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)唬渗。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性典阵，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

更新時(shí)間：2024/12/16 9:50:08

標(biāo)簽：納米球形二氧化硅研磨分散機(jī)