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目在粉體行業(yè)內(nèi)有很多種的處理要求,隨著粉體行業(yè)的競爭日益激烈泌霍,越來越多的客戶想要達(dá)到更加精細(xì)的物料,粉體行業(yè)也不斷的朝著納米粉體的方向發(fā)展述召,所以以的單一的處理方法已經(jīng)不適用了朱转,那么就會尋找一些相關(guān)的納米粉體制備就成了某些企業(yè)的關(guān)鍵問題了。
企業(yè)界是以物理機械研磨的方法得以讓粉體物料達(dá)到納米為主积暖。即干法研磨和濕法研磨藤为,對納米粉體制造廠而言,當(dāng)然希望以干法研磨方法來得到終納米粉體夺刑。但是若用干法研磨機研磨粉體時缅疟,粉體的溫度會因大量的能量導(dǎo)入從而導(dǎo)致急劇上升分别,且當(dāng)粉體顆粒細(xì)化后,如何避免防爆問題產(chǎn)生等都是研磨機難以掌控的存淫。所以濕法研磨方法就應(yīng)運而生耘斩,用濕法研磨機研磨得到的粉體是有效且合乎經(jīng)濟效益的方法。
納米粉體濕法研磨機桅咆, 線速度很高括授,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候岩饼,形成的摩擦力就比較劇烈荚虚,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形籍茧,具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽版述。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下寞冯,凹槽在每都可以改變方向渴析。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求简十。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力(可有泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力檬某,通過納米粉體濕法研磨機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力螟蝙、高頻振動等物理作用恢恼,使物料被有效的乳化、分散和粉碎胰默,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果场斑。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料牵署,可以滿足不同行業(yè)的多種需求漏隐。
影響濕法研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點:
1 研磨和分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨和分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒奴迅,中齒青责,細(xì)齒,超細(xì)齒取具,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在研磨分散腔體的停留時間脖隶,研磨均質(zhì)時間(可以看作同等的電機,流量越小暇检,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多产阱,效果越好,到設(shè)備的期限块仆,就不能再好)
CMSD2000系列濕法研磨機參數(shù)選型表
濕法研磨機 | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)构蹬。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性王暗,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
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更新時間:2024/12/16 9:50:08
標(biāo)簽:納米粉體濕法研磨機