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超微細分散液研磨分散機、色料濕法研磨分散機、有機化合物濕法研磨式分散機、金屬或金屬氧化物研磨分散機、醫(yī)藥用化合物分散式濕磨機
微量啵化技術為許多產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)制造的關鍵技術，其中以濕式研磨方法為相對經(jīng)濟的制程羔挡，并可應用在不同的材料上洁奈。濕式研磨為傳統(tǒng)的微粒化分散方式绞灼，其微晾酰化的技術及產(chǎn)品具有很大的工業(yè)應用范圍。舉例來說低矮，色料的分散液被廣泛的應用在油漆印叁、油墨、涂顏料军掂、工業(yè)染色等 許多域上轮蜕。而由技術的改良，濕式研磨的微粱茸叮化方式已可分散材料到納米尺度跃洛，例如使用不同設計的分散設備、不同種類結構的分散助劑终议。
超細粉體濕法研磨分散汇竭，能將顏料粒子研磨分散到更小葱蝗，以增加其色彩飽和度及穿透度。同時使成本降低细燎。
一般情況下超細粉體在液相中的分散包括三個階段：
1两曼、顆粒在液相中的潤濕過程；
2找颓、團聚體在外力的作用下被打散合愈，形成單個的小顆炼７罚或很小的團聚體的過程击狮；
3、單個顆烈胬希或小團聚體的分散穩(wěn)定彪蓬，防止再次的團聚沉降。
為了解決超細粉研磨分散的問題捺萌，上海依肯憑借多年來積累的豐富行業(yè)經(jīng)驗結合優(yōu)良技術研發(fā)平臺特別推出CMSD2000系列高速研磨分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品档冬，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙桃纯。第二由轉定子組成酷誓。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構的研磨定轉子态坦，好的表面處理和優(yōu)良的材料盐数，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。通過研磨分散機定轉齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力伞梯、摩擦力玫氢、高頻振動等物理作用，使物料被有效的乳化谜诫、分散和粉碎漾峡，達到物料超細粉碎、分散喻旷、乳化的效果生逸。
影響研磨分散結果的因素有以下幾點
1 研磨和分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 研磨和分散頭的剪切速率 （越大辣之，效果越好）
3 研磨和分散頭的齒形結構（分為初齒掰伸，中齒，細齒怀估，超細齒狮鸭，約細齒效果越好）
4 物料在研磨分散墻體的停留時間合搅，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小歧蕉，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多灾部，效果越好，到設備的期限惯退，就不能再好）
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率赌髓。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距催跪。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
CMSD2000系列超微細分散液研磨分散機參數(shù)選型表
| 型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)锁蠕。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
更新時間：2024/12/16 9:50:08
標簽：超微細分散液研磨分散機
