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碳納米管NMP漿料分散設(shè)備，碳納米管NMP漿料高剪切研磨式分散機(jī)簸州，水性碳納米管漿料研磨式分散機(jī)
IKN碳納米管NMP漿料分散機(jī)應(yīng)對碳納米管NMP漿料鉴竭，機(jī)械密封采用合金環(huán)，設(shè)備所有密封圈采用全氟橡膠岸浑；另外IKN研磨分散機(jī)更模塊都帶有夾套可進(jìn)行溫度控制搏存，便于各種工藝的要求。
碳納米管矢洲，又名巴基管璧眠，是一種具有特殊結(jié)構(gòu)（徑向尺寸為納米量，軸向尺寸為微米量读虏，管子兩端基本上都封口）的一維量子材料责静。碳納米管主要由呈六邊形排列的碳原子構(gòu)成數(shù)層到數(shù)十層的同軸圓管。層與層之間保持固定的距離盖桥，約0.34nm灾螃，直徑一般為2~20 nm。并且根據(jù)碳六邊形沿軸向的不同取向可以將其分成鋸齒形揩徊、扶手椅型和螺旋型三種腰鬼。其中螺旋型的碳納米管具有手性，而鋸齒形和扶手椅型碳納米管沒有手性塑荒。
碳納米管分散技術(shù)三要素
碳納米管分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)熄赡、分散劑和分散設(shè)備
1、分散介質(zhì)
（1）根據(jù)粘度不同齿税，分散介質(zhì)分為高粘度彼硫、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中偎窘，如水和有機(jī)溶劑乌助，碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂陌知、液態(tài)硅橡膠等他托，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。
（2）此處介紹的碳納米管分散技術(shù)仆葡，針對中赏参、低粘度分散介質(zhì)志笼。
2、分散劑
（1）分散劑的選擇把篓，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)纫溃、性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)韧掩。
（2）分散劑的用量紊浩，與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。
（3）水性介質(zhì)中疗锐，推薦使用TNWDIS坊谁。強(qiáng)性有機(jī)溶劑中，如醇滑臊、DMF口芍、NMP， 推薦使用TNADIS雇卷。中等性有機(jī)溶劑如酯類鬓椭、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠关划，推薦使用TNEDIS 小染。
3、分散設(shè)備
（1）超聲波分散設(shè)備：非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模贮折、低粘度介質(zhì)分散碳納米管氧映，用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制脱货。
（2）研磨分散設(shè)備：適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管律姨。
（3）采用“先研磨分散振峻、后超聲波分散”組合方法，可以高效择份、穩(wěn)定地分散碳納米管分散劑用量推薦扣孟。
碳納米管分散難點(diǎn)
碳納米管分散，其實(shí)也就是所謂的納米物料的分散荣赶，在做納米粉體分散或研磨時凤价，因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運(yùn)動現(xiàn)象逐漸明顯且重要拔创。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動影響利诺，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
IKN碳納米管NMP漿料分散機(jī)特點(diǎn)
1剩燥、研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)為：第1組模塊為膠體磨頭定轉(zhuǎn)子慢逾，第2組模塊為分散盤定轉(zhuǎn)子；有利于碳納米管漿料的分散，先研磨后分散侣滩，避免物料的團(tuán)聚口注。
2、研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm君珠，線速度為44m/s寝志，定轉(zhuǎn)子間隙為0.2-0.3mm，屬于超精細(xì)分散策添，高速剪切速率材部，分散后的碳納米管漿料更加均勻穩(wěn)定。
3舰攒、IKN研磨分散機(jī)應(yīng)對碳納米管NMP漿料败富，機(jī)械密封采用合金環(huán)，設(shè)備所有密封圈采用全氟橡膠摩窃；另外IKN研磨分散機(jī)更模塊都帶有夾套可進(jìn)行溫度控制兽叮，便于各種工藝的要求。
CMSD2000系列研磨式分散機(jī)參數(shù)選型表
| 研磨式分散機(jī) | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
| 類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
| CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
| CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
| CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
| CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)猾愿。
碳納米管NMP漿料分散設(shè)備鹦聪，碳納米管NMP漿料高剪切研磨式分散機(jī)，水性碳納米管漿料研磨式分散機(jī)
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性蒂秘，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
更新時間：2024/12/16 9:50:08
標(biāo)簽：碳納米管NMP漿料分散設(shè)備 碳納米管NMP漿料高剪切研磨式分散機(jī) 水性碳納米管漿料研磨式分散機(jī)
