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當前位置:上海依肯機械設(shè)備有限公司>產(chǎn)品中心>高速研磨分散機 > 超高速研磨分散機 > 光刻膠色漿研磨分散機榜掌,高剪切研磨分散機流礁,高速研磨分散機件蚕,研磨分散設(shè)備工藝裝置
光刻膠色漿的制備工藝注服,主要是涉及色漿配方(顏料、分散劑措近、溶劑等)混合溶弟,然后經(jīng)過高速研磨分散機研磨分散得到一定粒度分散的漿料,而后再通過濾芯對漿料進行除雜(去除大顆粒瞭郑,金屬離子等污染物)辜御。
在色漿制備中的難點是色漿的團聚現(xiàn)象,這既和配方的穩(wěn)定性有關(guān)凰浮,也和制備工藝機械能是否適中有關(guān):過小的機械能不足以解開團聚我抠;而過大的機械能則容易對粒子造成二次損壞,局部溫度過高袜茧,降低穩(wěn)定性;此外瓣窄,制備工藝對大顆粒的去除效果會直接影響成品效果笛厦。色漿的穩(wěn)定性不僅是對制備工藝優(yōu)化至關(guān)重要,更是直接影響成品色漿的存儲和使用俺夕。 高速研磨分散機裳凸, 線速度很高贱鄙,剪切間隙非常小特別適合于漿料的研磨分散,這樣當物料經(jīng)過的時候姨谷,形成的摩擦力就比較劇烈逗宁,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形梦湘,具有精細度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽瞎颗。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下捌议,凹槽在每都可以改變方向哼拔。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求瓣颅。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力(可有泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力倦逐,通過高速研磨分散機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力宫补、高頻振動等物理作用檬姥,使物料被有效的乳化、分散和粉碎粉怕,達到物料超細粉碎及乳化的效果健民。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料斋荞,可以滿足不同行業(yè)的多種需求荞雏。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點:
1 研磨和分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨和分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒平酿,中齒凤优,細齒,超細齒蜈彼,約細齒效果越好)
4 物料在研磨分散腔體的停留時間筑辨,研磨均質(zhì)時間(可以看作同等的電機,流量越小幸逆,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多棍辕,效果越好,到設(shè)備的期限还绘,就不能再好)
CMSD2000系列研磨分散機參數(shù)選型表
研磨分散機 | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)楚昭。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
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更新時間:2024/12/16 9:24:18