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納米二氧化硅研磨分散機(jī)行嗤,改性納米二氧化硅溶液漿料高速高剪切研磨分散機(jī),二氧化硅分散液研磨分散機(jī),二氧化硅超細(xì)粉高速分散機(jī)
分散三個(gè)階段:
1垛耳、超細(xì)顆粒在液體中的潤濕栅屏;
2、團(tuán)聚體在機(jī)械力作用下被打開形成獨(dú)立的原生粒子或較小的團(tuán)聚體堂鲜;
3栈雳、將原生粒子或較小團(tuán)聚體穩(wěn)定化,阻止再次團(tuán)聚缔莲。
從某種意義上講哥纫,納米粉體的分散處理是納米粉體技術(shù)中關(guān)鍵的技術(shù),也是納米材料應(yīng)用中必須解決的重要環(huán)節(jié)酌予。
影響納米材料分散要素:
1磺箕、分散介質(zhì)
(1)根據(jù)粘度不同奖慌,分散介質(zhì)分為高粘度抛虫、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中简僧,如水和有機(jī)溶劑建椰,納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂岛马、液態(tài)硅橡膠等棉姐,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。
2啦逆、分散劑
(1)分散劑的選擇伞矩,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、性夏志、溶度參數(shù)等密切相關(guān)乃坤。
(2)分散劑的用量,與納米材料比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。
(3)水性介質(zhì)中湿诊,推薦使用TNWDIS狱杰。強(qiáng)性有機(jī)溶劑中,如醇厅须、DMF仿畸、NMP,推薦使用TNADIS朗和。
3错沽、分散設(shè)備
上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司門應(yīng)對(duì)納米材料研磨分散開發(fā)的高速高剪切研磨分散機(jī)CMSD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氣相二氧化硅(白炭黑),納米氧化鋅眶拉,納米氧化鈷甥捺,納米氧化鐵,納米氧化鉍镀层,納料ATO合金等產(chǎn)品镰禾。納米金屬粉體、碳納米管唱逢、高純Al2O3吴侦、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑坞古、納米TiO2液體备韧、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2痪枫、超細(xì)高純ZrO2织堂、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉奶陈、納米SiO2易阳、納米ZnO、光觸媒吃粒、納米三防整理劑等系列粉體潦俺、液體、制劑在中徐勃、低粘度介質(zhì)里的分散事示。
高速研磨分散機(jī)工作原理:高速研磨分散機(jī),線速度很高僻肖,剪切間隙非常小肖爵,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈臀脏,結(jié)果就是通常所說的濕磨劝堪。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形法挨,具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離幅聘。在增強(qiáng)的流體湍流下凡纳,凹槽在每都可以改變方向。第二組由轉(zhuǎn)定子組成帝蒿。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求荐糜。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力(可有泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,通過高速研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力葛超、摩擦力暴氏、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效的乳化绣张、分散和粉碎答渔,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子侥涵,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料沼撕,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
從設(shè)備角度分析芜飘,影響分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn):
1务豺、研磨分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2、研磨分散頭的剪切速率(越大嗦明,效果越好)
3笼沥、研磨分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒娶牌,細(xì)齒奔浅,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4诗良、物料在研磨分散腔體的停留時(shí)間汹桦,研磨分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小累榜,效果越好)
5营勤、循環(huán)次數(shù)(越多灵嫌,效果越好壹罚,到設(shè)備的期限,就不能再好)
設(shè)備的選型要點(diǎn):
1寿羞、明確使用設(shè)備所需達(dá)到的效果和目的
2猖凛、詳細(xì)了解并掌握研究物料的性質(zhì)(包括物理、化學(xué)性質(zhì))
3绪穆、根據(jù)物料對(duì)設(shè)備的攪拌機(jī)進(jìn)行選型
4辨泳、再次確定設(shè)備的操作參數(shù)及結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
5虱岂、綜合考慮設(shè)備的成本
CMSD2000系列研磨分散設(shè)備適用工藝:
精細(xì)化工:顏料、燃料菠红、涂料第岖、油漆、塑料试溯、樹脂蔑滓、油墨、糊料遇绞、漿料键袱、熱熔膠、阻燃劑摹闽、膠黏劑蹄咖、整理劑、表面活性劑付鹿、均染劑澜汤、防粘劑、消泡劑舵匾、亮光劑银亲、橡膠助劑、塑料助劑纽匙、燃料助劑务蝠、絮凝劑、混凝劑烛缔、表面活性劑馏段、溶劑、硅油乳化践瓷、樹脂乳化院喜、炭黑分散、白炭黑
石油化工:潤滑油晕翠、重油混合喷舀、重油乳化、油包水淋肾、包油水硫麻、柴油乳化、改性瀝青樊卓、乳化瀝青拿愧、催化劑、蠟乳化
農(nóng)藥化肥:化肥碌尔、農(nóng)藥乳化浇辜、農(nóng)藥助劑券敌、農(nóng)藥中間體、藥乳油柳洋、殺蟲劑待诅、除草劑、種衣劑熊镣、殺菌劑咱士、植物激素、尿素轧钓、復(fù)合肥序厉、乳油、濕性粉劑
生物醫(yī)藥:細(xì)胞漿化毕箍、血清疫苗弛房、蛋白質(zhì)分散劑、藥乳膏而柑、抗生素文捶、糖衣、各型糖漿媒咳、營養(yǎng)液粹排、中成藥、膏狀藥劑涩澡、生物制品顽耳、魚肝油、花粉妙同、蜂皇漿射富、疫苗、各種藥膏粥帚、各種口服液胰耗、針劑、靜滴液等
日用化工:護(hù)膚霜芒涡、護(hù)膚膏柴灯、洗滌劑、防腐劑费尽、美發(fā)用品赠群、牙膏、日用香精依啰、洗發(fā)精乎串、鞋油、化妝品速警、沐浴精叹誉、肥皂、香脂等
食品工業(yè):食品添加劑闷旧、香精长豁、香料、果汁忙灼、果醬匠襟、冰淇淋、乳制品该园、巧克力酸舍、蘆薈、菠蘿里初、芝麻啃勉、月餅餡、奶油双妨、果汁淮阐、大豆、豆醬刁品、豆沙泣特、花生奶、蛋白奶挑随、豆奶状您、乳制品、麥乳精兜挨、番茄醬竞阐、花生醬、果凍暑劝、布丁骆莹、功能飲料、啤酒担猛、雞精幕垦、調(diào)味品等
CMSD2000系列研磨分散機(jī)參數(shù)選型表
研磨分散機(jī) | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)娃胆。
更新時(shí)間:2024/12/16 9:24:20
標(biāo)簽:納米二氧化硅研磨分散機(jī) 研磨分散機(jī) 分散機(jī)