二氧化鈦超高速研磨分散機,二氧化鈦納米膠體磨,二氧化鈦分散研磨均質設備,納米二氧化鈦高速分散機
二氧化鈦適用十分廣泛,如油漆泡态、防曬霜和藥片包衣。通常市場上都提供不同別的粉末產品,但是實際使用時還會對細度提出新的要求迂卢。同時,這類粉體碰到液體時易團聚,這就成為了二氧化鈦的分散的一個難點某弦。IKN系列混合分散設備為快速分散而設計,達到窄粒徑分布,并防止結塊。
二氧化鈦超高速研磨分散機,二氧化鈦納米膠體磨,二氧化鈦分散研磨均質設備,納米二氧化鈦高速分散機用于二氧化鈦分散和研磨的優(yōu)點：
一而克、縮短工藝時間靶壮。IKN高剪切乳化分散設備可以迅速地混合分散二氧化鈦粉末,并消除結塊和團聚。IKN也提供PLD和PLG粉體/液體混合機,將粉體直接加入液體,無需循環(huán)處理,一次性通過便可成型员萍。
二腾降、提高品質。IKN高剪切混合機可以打碎結塊粉體,并與液體充分混合碎绎。這樣可以改善產品光澤和透明度,這兩個特征由分散好壞直接決定螃壤。
三、減少資金投入筋帖。IKN磨機可以更大程度縮小粒徑,達到窄粒徑分布奸晴。IKN分散研磨設備的流量比同類研磨設備高出很多,但也可達到相類似的效果。模塊化設計的IKN 2000系列產品,可以幫助客戶節(jié)約資金投資日麸。
二氧化鈦超高速研磨分散機,二氧化鈦納米膠體磨,二氧化鈦分散研磨均質設備,納米二氧化鈦高速分散機 是IKN(上海)公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料寄啼。我們將三組高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三組變跟為一組,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
IKN研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品，先是由具有精細度遞升的三組鋸齒突起和凹槽墩划。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離睦霎。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向。第二組由轉定子組成走诞。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度蛤高、中等精度蚣旱、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數戴陡、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能塞绿。
CMD2000系列二氧化鈦研磨分散機的特點：
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨；
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽恤批；
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離异吻；
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向；
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求喜庞。
CMD2000系列研磨分散設備選型表
| 研磨分散機 | 流量L/H | 輸出轉速rpm | 線速度m/s | 馬達功率kw | 出口/入口連接 |
| CMD2000/04 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
| CMD2000/05 | 1,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
| CMD2000/10 | 3,000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN50 |
| CMD2000/20 | 8,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
| CMD2000/30 | 20,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
| CMD2000/50 | 60,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決去設置的間隙和被處理物料的特性诀浪，可以被調節(jié)到大允許量的10%。
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更新時間：2024/12/16 9:49:54
標簽：二氧化鈦超高速研磨分散機 高速研磨分散機 研磨分散機
