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產(chǎn)品展示
  • 產(chǎn)品名稱:共研磨法制備殼聚糖衍生物與PVA共混物濕法研磨分散機(jī)虑绵、高分子聚合物濕法研磨分散機(jī)
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國(guó)大陸
  • 訪問(wèn)次數(shù):157 發(fā)布時(shí)間:2023/5/26 11:11:37
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共研磨法制備殼聚糖衍生物與PVA共混物濕法研磨分散機(jī)乔外、高分子聚合物濕法研磨分散機(jī)

共研磨法制備殼聚糖衍生物與PVA共混物濕法研磨分散機(jī)、高分子聚合物濕法研磨分散機(jī)锭碳,一種制備殼聚糖衍生物與PVA共混物研磨分散工藝技術(shù)方案

     殼聚糖(chitosan袁稽,CS)及其衍生物具有良好的成膜性、是一種工業(yè)上廣泛使用的成膜材料擒抛,其具有生物相容性好推汽、止血、抗菌等一系列優(yōu)點(diǎn)歧沪。但單一的殼聚糖膜存在耐酸與耐水性差歹撒、質(zhì)脆機(jī)械性能差等缺點(diǎn),在很大程度上限制了殼聚糖的使用诊胞。聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA)是一種高分子聚合物暖夭,其成膜性較強(qiáng),所制得的膜機(jī)械強(qiáng)度與韌性較高撵孤,具有非常好的生物相容性迈着,被廣泛用于醫(yī)藥與人工材料域。大量研究表明邪码,聚乙烯醇與殼聚糖衍生物按一定比例共混裕菠,可以有效提高殼聚糖的耐水性與機(jī)械性能,其反應(yīng)機(jī)理為聚乙烯醇與殼聚糖衍生物共混生成氫鍵闭专,因此大改善了共混膜的斷裂伸長(zhǎng)率奴潘、彈性模量等機(jī)械性能與韌性。采用殼聚糖衍生物與聚乙烯醇共混技術(shù)可制成共混膜影钉、水凝膠或共混纖維等材料画髓,在醫(yī)藥、食品平委、化工奈虾、環(huán)保材料等域都有著廣泛的應(yīng)用,如包裝材料廉赔、傷口敷料肉微、有機(jī)染料及金屬離子濾除等。

    目昂勉,主流的聚乙烯醇與殼聚糖衍生物共混技術(shù)缺點(diǎn)是制備時(shí)間長(zhǎng)浪册,制備過(guò)程中需要加熱,人工與能源消耗都較大岗照,并且在制備過(guò)程中常需加入交聯(lián)劑村象,易導(dǎo)致產(chǎn)品有機(jī)溶劑殘留笆环,尤其不適合醫(yī)藥類產(chǎn)品的生產(chǎn)。濕法共研磨技術(shù)是新一代粉碎技術(shù)厚者,該技術(shù)具有簡(jiǎn)便易行躁劣、成本低廉、無(wú)毒無(wú)害及增溶效果明顯等特點(diǎn)库菲,尤其適合工業(yè)化大生產(chǎn)账忘。其在礦業(yè)、化工與制藥域均有廣泛的應(yīng)用熙宇。在藥學(xué)域共研磨主要應(yīng)用于難溶性藥物的增溶鳖擒,其增溶原理與改變藥物晶型及促進(jìn)藥物及輔料間形成氫鍵有關(guān)。

     所述的濕法共研磨技術(shù)能夠促使溶液中的PVA和殼聚糖衍生物在室溫條件下5-30min內(nèi)快速形成氫鍵烫止。共研磨作用通過(guò)破壞聚合物分子內(nèi)已有的穩(wěn)定結(jié)構(gòu)蒋荚,加速分子運(yùn)動(dòng),進(jìn)而誘導(dǎo)聚合物分子間的相互作用馆蠕,其作用效果與常規(guī)的加熱期升、攪拌手段相當(dāng),并且避免了有機(jī)交聯(lián)劑的添加互躬,不僅工藝簡(jiǎn)單適應(yīng)工業(yè)化生產(chǎn)播赁,更符合綠色化學(xué)的要求。

     所述的濕法共研磨工藝具體實(shí)施方法為:先將PVA分散至溶劑中吼渡,研磨使PVA溶解后容为,然后加入殼聚糖衍生物研磨溶解后,再共研磨5-30min即可诞吱。

    上海依肯憑借多年來(lái)積累的豐富行業(yè)經(jīng)驗(yàn)結(jié)合優(yōu)良技術(shù)研發(fā)平臺(tái)特別推出CMSD2000系列高速改進(jìn)研磨分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品舟奠,先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽竭缝。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無(wú)限制調(diào)整間隙房维。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求抬纸。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子咙俩,好的表面處理和優(yōu)良的材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求湿故。通過(guò)研磨分散機(jī)磨定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力阿趁、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用坛猪,使物料被有效的乳化脖阵、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎墅茉、分散命黔、乳化的效果呜呐。
    



 


影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1 研磨和分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

研磨和分散頭的剪切速率  (越大,效果越好)

研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒悍募,中齒蘑辑,細(xì)齒,超細(xì)齒坠宴,約細(xì)齒效果越好)

4 物料在研磨分散墻體的停留時(shí)間洋魂,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小喜鼓,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多副砍,效果越好,到設(shè)備的期限庄岖,就不能再好)

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率址晕。

– 剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)/   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距顿锰。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

CMSD2000系列濕法研磨分散機(jī)參數(shù)選型表

 

型號(hào)

 

 

 

流量

 

 

 

L/H

 

 

 

轉(zhuǎn)速

 

 

 

rpm

 

 

 

 

線速度

 

 

 

m/s

 

 

 

 

功率

 

 

 

kw

 

 

 

入/出口連接

 

 

 

DN

 

 

 

CMSD 2000/4

 

 

 

300

 

 

 

14000

 

 

 

 

41

 

 

 

 

4

 

 

 

DN25/DN15

 

 

 

CMSD 2000/5

 

 

 

1000

 

 

 

10500

 

 

 

 

41

 

 

 

 

11

 

 

 

DN40/DN32

 

 

 

CMSD 2000/10

 

 

 

4000

 

 

 

7200

 

 

 

 

41

 

 

 

 

22

 

 

 

DN80/DN65

 

 

 

CMSD 2000/20

 

 

 

10000

 

 

 

4900

 

 

 

 

41

 

 

 

 

45

 

 

 

DN80/DN65

 

 

 

CMSD 2000/30

 

 

 

20000

 

 

 

2850

 

 

 

 

41

 

 

 

 

90

 

 

 

DN150/DN125

 

 

 

CMSD 2000/50

 

 

 

60000

 

 

 

1100

 

 

 

 

41

 

 

 

 

160

 

 

 

DN200/DN150

 

 

 

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)谨垃。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10% 

 

 

共研磨法制備殼聚糖衍生物與PVA共混物濕法研磨分散機(jī)硼控、高分子聚合物濕法研磨分散機(jī)刘陶,一種制備殼聚糖衍生物與PVA共混物研磨分散工藝技術(shù)方案

更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54

標(biāo)簽:共研磨法制備殼聚糖衍生物與PVA共混物濕法研磨分散機(jī)   濕法研磨分散機(jī)   研磨分散機(jī)   

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