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產(chǎn)品展示
  • 產(chǎn)品名稱:碳化硅精細陶瓷用碳化硅微粉研磨分散機
  • 產(chǎn)品價格:0
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國大陸
  • 訪問次數(shù):153 發(fā)布時間:2023/5/12 17:10:19
  • 簡介內(nèi)容:碳化硅精細陶瓷用碳化硅微粉研磨分散機,碳化硅微粉濕法粉碎研磨機,碳化硅微粉漿液納米研磨分散機,碳化硅微粉濕法研磨分散機物料通過研磨分散機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力顽悼、摩擦力孕讳、高頻振動等物理作用走哺,使物料被有效的乳化刁赖、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果僚焦,粉體粒徑可至微納米。...更多詳情請致電上海依肯銷售工程師 徐工 182-0189-1183曙痘,公司有樣機可以免費進行實驗測試芳悲。
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碳化硅精細陶瓷用碳化硅微粉研磨分散機

碳化硅精細陶瓷用碳化硅微粉研磨分散機,碳化硅微粉濕法粉碎研磨機屡江,碳化硅微粉漿液納米研磨分散機芭概,碳化硅微粉濕法研磨分散機

     
      碳化硅精細陶瓷具有高硬度、高強度惩嘉、高耐磨性罢洲、耐腐蝕、耐高溫等特點文黎,已逐漸應(yīng)用到航空航天惹苗、機械、冶金耸峭、能源桩蓉、環(huán)保、化工劳闹、醫(yī)學(xué)院究、電子洽瞬、軍工等諸多技術(shù)域。碳化硅精細陶瓷的性能與碳化硅原料微粉的質(zhì)量密切相關(guān)业汰,通常要求微粉純度高伙窃、粒度分布均勻、顆粒形狀為近球形样漆、不易團聚具有良好的流動性为障、燒結(jié)性能好。         
       現(xiàn)有的碳化硅微粉工業(yè)化生產(chǎn)流程主要包括冶煉放祟、粉碎鳍怨、提純、精密分等一系列過程跪妥,對于碳化硅精細陶瓷用原料微粉需增加整形工序鞋喇。在上述工藝過程中,雖然理論上可以實現(xiàn)不同粒徑碳化硅微粉的分離骗奖,但實際上對于一些粒徑相差非常大的粒子難以實現(xiàn)完全分離确徙,如微米碳化硅微粉顆粒表面會粘附大量的納米碳化硅顆粒(主要成分為SiO2與低純度的SiC),而納米碳化硅顆粒的存在會降低碳化硅微粉的純度执桌,影響微粉的流動性鄙皇、分散性、堆積密度仰挣,而且會優(yōu)先與燒結(jié)助劑反應(yīng)伴逸,造成碳化硅微粉的成型性能與燒結(jié)性能變差,進而導(dǎo)致終碳化硅精細陶瓷制品性能下降膘壶。

   
    碳化硅微粉濕法研磨分散機CMSD2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品错蝴,先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙颓芭。第二由轉(zhuǎn)定子組成顷锰。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。物料通過研磨分散機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力亡问、摩擦力官紫、高頻振動等物理作用,使物料被有效的乳化州藕、分散和粉碎束世,達到物料超細粉碎及乳化的效果,粉體粒徑可至微納米床玻。

整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子毁涉,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求锈死。

濕法研磨分散機濕磨是干磨的一種安全而高效的替代方案贫堰,基于轉(zhuǎn)子-定子原理穆壕。

用轉(zhuǎn)子-定子置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處:

1、 研磨得到的細顆粒被直接融合到懸浮液中严嗜,因而從開始就避免了灰塵的形成粱檀;

2 、與干磨系統(tǒng)不同漫玄,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi),從而大幅減少了損失压彭。因此睦优,濕磨非常適合有機化學(xué)品,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì)壮不,或者有毒物質(zhì)的研磨汗盘;

3、相對干磨過程而言询一,濕磨的產(chǎn)品進料和計量較容易隐孽。

 

CMSD2000系列碳化硅微粉濕法研磨分散機選型表

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

 

線速度

m/s

 

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

 

41

 

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

 

41

 

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

 

41

 

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

 

41

 

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

 

41

 

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

 

41

 

160

DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性健蕊,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

碳化硅精細陶瓷用碳化硅微粉研磨分散機菱阵,碳化硅微粉濕法粉碎研磨機碳化硅微粉漿液納米研磨分散機缩功,碳化硅微粉濕法研磨分散機

更新時間:2024/12/16 9:49:54

標(biāo)簽:碳化硅微粉濕法研磨分散機   濕法研磨分散機   研磨分散機   

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