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化工微球在線乳化機(jī)
醫(yī)藥微球在線乳化機(jī)
高速沉析機(jī)
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產(chǎn)品展示
  • 產(chǎn)品名稱:醫(yī)藥結(jié)晶體濕法研磨粉碎分散技術(shù)設(shè)備
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國大陸
  • 訪問次數(shù):155 發(fā)布時(shí)間:2023/5/9 18:19:15
  • 簡介內(nèi)容:醫(yī)藥結(jié)晶體1um~10um濕法粉碎機(jī)捣染,醫(yī)藥結(jié)晶體1um濕法研磨分散機(jī)改衩,符合GMP規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)的醫(yī)藥結(jié)晶體濕磨機(jī)哑姚,醫(yī)藥中間體濕法粉碎機(jī)训堆,溫度可控轉(zhuǎn)速可變頻調(diào)節(jié)的智能化超細(xì)研磨分散機(jī)搬男,透過膠體磨定腺兴、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力悼尾、摩擦力、高頻振動等物理作用章贞,使物料被有效地乳化祥绞、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果鸭限,粉碎粒徑可至1~10um蜕径。
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詳細(xì)內(nèi)容

醫(yī)藥結(jié)晶體濕法研磨粉碎分散技術(shù)設(shè)備

醫(yī)藥結(jié)晶體1um~10um濕法粉碎機(jī),醫(yī)藥結(jié)晶體1um濕法研磨分散機(jī)败京,符合GMP規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)的醫(yī)藥結(jié)晶體濕磨機(jī)兜喻,醫(yī)藥中間體濕法粉碎機(jī) ,硫酸氫氯吡格雷濕法粉碎機(jī),多功能醫(yī)藥結(jié)晶體超細(xì)粉碎研磨分散機(jī)赡麦,溫度可控轉(zhuǎn)速可變頻調(diào)節(jié)的智能化超細(xì)研磨分散機(jī)朴皆,醫(yī)藥濕法粉碎機(jī)是通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力隧甚,透過膠體磨定车荔、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力戚扳、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化族吻、分散和粉碎帽借,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果珠增,粉碎粒徑可至1~10um。

     目砍艾,許多結(jié)晶體一般在40-50UM 蒂教,下游的客戶在處理這些物料有更高的要求一般需要達(dá)到5-10UM  ,要么干法氣流粉碎  脆荷,要么濕法粉碎 且粉碎過程中要保證晶體的形狀凝垛,以及粒度的均一性。

     干磨產(chǎn)生大量灰塵蜓谋,從而需要配備適當(dāng)?shù)倪^濾系統(tǒng)梦皮。當(dāng)研磨其粉塵與大氣氧氣混合會產(chǎn)生爆炸性混合物的物質(zhì)時(shí),這一點(diǎn)尤其重要桃焕。達(dá)到規(guī)定的安全等通常需要精心設(shè)計(jì)的技術(shù)解決方案剑肯,如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)。這些過濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實(shí)際研磨機(jī)的成本观堂。濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應(yīng)用中让网,并且取得了良好的效果,因?yàn)樗浅_m用于API(活性藥用成分)师痕。 

濕磨機(jī)濕磨是干磨的一種安全而高效的替代方案溃睹,基于轉(zhuǎn)子-定子原理。

用轉(zhuǎn)子-定子置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處:

1胰坟、 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融 合到懸浮液中因篇,因而從開始就避免了灰塵的形成;

2 腕铸、與干磨系統(tǒng)不同惜犀,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi),從而大幅減少了損失狠裹。因此虽界,濕磨非常適合有機(jī)化學(xué)品,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì)涛菠,或者有毒物質(zhì)的研磨莉御;

3、相對干磨過程而言俗冻,濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計(jì)量較容易礁叔。


醫(yī)藥結(jié)晶體濕法粉碎機(jī),濕磨機(jī)是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上改進(jìn)的一款除了研磨效果以外更添加可高速剪切分散頭迄薄,使得物料在研磨粉碎的瞬間立即被高剪切分散琅关。

      設(shè)備結(jié)構(gòu):先由具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離讥蔽。在增強(qiáng)的流體湍流下涣易,凹槽在每都可以改變方向画机。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要新症。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對輸送性的要求方面步氏,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度徒爹、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列荚醒,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)隆嗅、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能界阁。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以往的經(jīng)驗(yàn)來選取工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用榛瓮。在大多數(shù)情況下铺董,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出產(chǎn)品是很重要禀晓。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用精续。


CMSD2000系列
醫(yī)藥結(jié)晶體濕法粉碎機(jī),濕磨機(jī)選型表

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

 

線速度

m/s

 

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

 

41

 

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

 

41

 

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

 

41

 

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

 

41

 

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

 

41

 

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

 

41

 

160

DN200/DN150

 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)粹懒。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性重付,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

醫(yī)藥結(jié)晶體1um~10um濕法粉碎機(jī),醫(yī)藥結(jié)晶體1um濕法研磨分散機(jī)凫乖,符合GMP規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)的醫(yī)藥結(jié)晶體濕磨機(jī)确垫,醫(yī)藥中間體濕法粉碎機(jī) ,硫酸氫氯吡格雷濕法粉碎機(jī),多功能醫(yī)藥結(jié)晶體超細(xì)粉碎研磨分散機(jī)帽芽,溫度可控轉(zhuǎn)速可變頻調(diào)節(jié)的智能化超細(xì)研磨分散機(jī) 

更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54

標(biāo)簽:醫(yī)藥結(jié)晶體1um濕法研磨分散機(jī)   濕法研磨分散機(jī)   研磨分散機(jī)   

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