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當(dāng)前位置:上海依肯機械設(shè)備有限公司>產(chǎn)品中心>高速研磨分散機 > 納米研磨分散機 > 上海生產(chǎn)廠家直供醫(yī)藥結(jié)晶體1um濕法研磨分散機 上海
干磨產(chǎn)生大量灰塵坦辟,從而需要配備適當(dāng)?shù)倪^濾系統(tǒng)刊侯。當(dāng)研磨其粉塵與大氣氧氣混合會產(chǎn)生爆炸性混合物的物質(zhì)時,這一點尤其重要锉走。達到規(guī)定的安全等通常需要精心設(shè)計的技術(shù)解決方案滨彻,如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)。這些過濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實際研磨機的成本挪蹭。濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應(yīng)用中亭饵,并且取得了良好的效果,因為它非常適用于API(活性藥用成分)梁厉。
濕磨機濕磨是干磨的一種安全而高效的替代方案辜羊,基于轉(zhuǎn)子-定子原理。
用轉(zhuǎn)子-定子置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處:
1词顾、 研磨得到的細顆粒被直接融 合到懸浮液中八秃,因而從開始就避免了灰塵的形成;
2 肉盹、與干磨系統(tǒng)不同昔驱,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi),從而大幅減少了損失上忍。因此骤肛,濕磨非常適合有機化學(xué)品,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì)窍蓝,或者有毒物質(zhì)的研磨腋颠;
3、相對干磨過程而言吓笙,濕磨的產(chǎn)品進料和計量較容易淑玫。
醫(yī)藥結(jié)晶體濕法粉碎機,濕磨機是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上改進的一款除了研磨效果以外更添加可高速剪切分散頭,使得物料在研磨粉碎的瞬間立即被高剪切分散混移。
設(shè)備結(jié)構(gòu):先由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽祠墅。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下歌径,凹槽在每都可以改變方向毁嗦。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要回铛。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面狗准,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度茵肃、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列腔长,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)验残、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能捞附。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以往的經(jīng)驗來選取工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用您没。在大多數(shù)情況下鸟召,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出產(chǎn)品是很重要氨鹏。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用欧募。
CMSD2000系列醫(yī)藥結(jié)晶體濕法粉碎機,濕磨機選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)仆抵。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性跟继,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
醫(yī)藥結(jié)晶體1um~10um濕法粉碎機,醫(yī)藥結(jié)晶體1um濕法研磨分散機镣丑,符合GMP規(guī)范標準的醫(yī)藥結(jié)晶體濕磨機舔糖,醫(yī)藥中間體濕法粉碎機 ,硫酸氫氯吡格雷濕法粉碎機汗贫,多功能醫(yī)藥結(jié)晶體超細粉碎研磨分散機肋乍,溫度可控轉(zhuǎn)速可變頻調(diào)節(jié)的智能化超細研磨分散機更新時間:2024/12/16 9:49:54