研磨分散（膠體磨）的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達(dá)到互相包裹，近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程脚翘。即形成乳液或懸浮液的條件是灼卢，在某一能量水平上， 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達(dá)到動態(tài)的平衡来农。
       氫氧化鎂阻燃劑膠體磨（研磨）通過皮帶傳送鞋真，可實現(xiàn)2到3倍的加速，同時立式直立的轉(zhuǎn)軸沃于，運轉(zhuǎn)穩(wěn)定性大大提高涩咖，同時轉(zhuǎn)子動平衡性得到提高海诲，間隙也允許縮小而不產(chǎn)生摩擦。因此立式濕法粉碎機機有XX的乳化分散粉碎效果檩互。根據(jù)其定轉(zhuǎn)子剪切的原理特幔，還可以實現(xiàn)固體物料在液體介質(zhì)中的粉碎，超細(xì)物料的均勻分散闸昨，以及加速大分子物質(zhì)的溶解蚯斯。經(jīng)過特別設(shè)計的高剪切膠體磨 也可以成為反應(yīng)發(fā)生的場所，比如兩種液體物料反應(yīng)生成固體顆粒饵较，通過分別通入腔體拍嵌，兩種物料接觸時被剪切成微滴，均勻混合后反應(yīng)生成的粒子大小均勻循诉，并且粒徑很小横辆。

      氫氧化鎂阻燃劑膠體磨，研磨分散機機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品茄猫。第yi由具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽狈蚤。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下划纽，凹槽在每都可以改變方向脆侮。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要阿浓。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（分散頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面他嚷，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度芭毙、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣卸耘。狹槽數(shù)退敦、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例蚣抗，依據(jù)以的經(jīng)驗選取工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用侈百。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的翰铡，因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要钝域。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。  
       CMSD2000系列氫氧化鎂阻燃劑膠體磨的線速度很高锭魔，剪切間隙非常小例证，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈迷捧，結(jié)果就是通常所說的濕磨织咧。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形胀葱，具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離笙蒙。在增強的流體湍流下抵屿，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料捅位，可以滿足不同行業(yè)的多種要求轧葛。

 影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點：

1.膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

2. 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒艇搀，中齒朝群，細(xì)齒，超細(xì)齒中符，約細(xì)齒效果越好）

3.物料在研磨腔體的停留時間姜胖，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小淀散，效果越好）

 循環(huán)次數(shù)（越多右莱，效果越好，到設(shè)備的期限档插，就不能再好）

4.線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率慢蜓。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距郭膛。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60
氫氧化鎂阻燃劑膠體磨研磨分散機設(shè)備選型表

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)则剃。

氫氧化鎂阻燃劑膠體磨耘柱，一種新型阻燃劑14000轉(zhuǎn)高速膠體磨，無機阻燃劑膠體磨棍现，改性氫氧化鎂阻燃劑膠體磨调煎，一種新型環(huán)保阻燃劑研磨分散機