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影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn):
1.膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大吱涉,效果越好)
2. 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒刹泄,中齒,細(xì)齒怎爵,超細(xì)齒特石,約細(xì)齒效果越好)
3.物料在研磨腔體的停留時(shí)間,研磨粉碎時(shí)間(可以看作同等的電機(jī)鳖链,流量越小姆蘸,效果越好)
循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好芙委,到設(shè)備的期限逞敷,就不能再好)
4.線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知题山,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距兰粉。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
CMSD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
① 線速度很高,剪切間隙非常小顶瞳,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形慨菱,具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽焰络。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向符喝。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料闪彼,可以滿足不同行業(yè)的多種要求
設(shè)備等:化工、衛(wèi)生I协饲、衛(wèi)生II畏腕、無菌
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)茉稠、防爆馬達(dá)描馅、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ而线、220V/60HZ铭污、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 膀篮、SUS316L 嘹狞、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥誓竿、變頻器磅网、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光筷屡、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭涧偷、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
CMSD2000系列鉑碳催化劑膠體磨研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù)選型表:
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性速蕊,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%嫂丙。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
研磨分散機(jī)應(yīng)用域: 化學(xué)工業(yè):油漆规哲、顏料跟啤、染料、涂料唉锌、潤滑油隅肥、潤滑脂、柴油袄简、石油催化劑腥放、乳化瀝青、膠粘劑绿语、洗滌劑秃症、塑料候址、玻璃鋼、皮革种柑、白炭黑,二氧化硅,炭黑,纖維素岗仑,石墨烯,碳納米管聚请,富勒烯荠雕,電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。 食品工業(yè):蘆薈驶赏、菠蘿炸卑、芝麻、果茶煤傍、冰淇淋盖文、月餅餡、奶油患久、果醬椅寺、果汁、大豆蒋失、豆醬返帕、豆沙、花生奶篙挽、蛋白奶荆萤、豆奶、杏仁露铣卡、核桃露链韭、乳制品,麥乳精煮落、香精敞峭、各種飲料 花生醬、豆瓣醬蝉仇、香菇醬旋讹、辣醬、醬蝦醬轿衔,食用菌絲沉迹,豆粕酶解等
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更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54
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