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當(dāng)前位置:上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司>產(chǎn)品中心>高速濕法研磨機(jī) > 高剪切研磨分散機(jī) > 阿昔洛韋結(jié)晶體研磨分散機(jī)休雌,阿昔洛韋研磨分散機(jī),阿糖腺苷研磨分散機(jī)治笨,原料藥濕法研磨分散機(jī),嘌呤核苷衍生物濕法研磨分散機(jī)
應(yīng)用200mg劑量者拯勉,平均血漿峰濃度為0.56μg/ml竟趾,谷濃度為0.29μg/ml。服400mg者峰濃度為1.2μg/ml宫峦,谷濃度為0.62μg/ml岔帽。大部分體內(nèi)藥物以原形自尿排泄,尿中尚有占總量14%的代謝物导绷。部分藥物隨糞排出犀勒。正常人的t1/2為2.5小時(shí);肌酐清除率每分鐘15~50ml/1.73m2者t1/2為3.5小時(shí)妥曲,無尿者可延長到19.5小時(shí)贾费。臨床應(yīng)用于防治單純皰疹病毒HSV1和HSV2的皮膚或粘膜感染,還可用于帶狀皰疹病毒感染檐盟。尚用于治療乙型肝炎褂萧。
阿昔洛韋結(jié)晶體研磨分散機(jī)骏融,阿昔洛韋研磨分散機(jī),阿糖腺苷研磨分散機(jī),原料藥濕法研磨分散機(jī)萌狂,嘌呤核苷衍生物濕法研磨分散機(jī)采購須知 档玻,阿昔洛韋結(jié)晶體研磨分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。第yi由具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽茫藏。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離误趴。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向务傲。第二由轉(zhuǎn)定子組成凉当。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面售葡,特別要引起注意的是:在粗精度看杭、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列挟伙,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣楼雹。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能像寒。根據(jù)以往的慣例烘豹,依據(jù)以的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下诺祸,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的携悯,因而它對(duì)制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用筷笨。
CMSD2000系列的線速度很高憔鬼,剪切間隙非常小龟劲,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈轴或,結(jié)果就是通常所說的濕磨昌跌。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽照雁。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離蚕愤。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向饺蚊。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料萍诱,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等:化工污呼、衛(wèi)生I裕坊、衛(wèi)生II、無菌
電機(jī)形式:普通馬達(dá)燕酷、變頻調(diào)速馬達(dá)籍凝、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)苗缩、
電源選擇: 380V/50HZ饵蒂、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)酱讶、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 苹享、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐浴麻、排污閥、變頻器囤攀、電控箱软免、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭焚挠、螺口膏萧、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機(jī)(膠體磨+分散機(jī)) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%蝌衔。 |
更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54
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一種新上市的鉑碳催化劑高剪切研磨分散機(jī)窍育,碳基催化劑研磨分散機(jī)卡睦,14000轉(zhuǎn)高速研磨分散機(jī)