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  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國大陸
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       阿昔洛韋蟹腾,是一種合成的嘌呤核苷類似物,化學(xué)式為C8H11N5O3区宇,主要用于單純皰疹病毒所致的各種感染娃殖,可用于初發(fā)或復(fù)發(fā)性皮膚、粘膜议谷,外生殖器感染及免疫缺陷者發(fā)生的HSV感染炉爆,是治療HSV腦炎的選藥物,減少發(fā)病率及降低死亡率均優(yōu)于阿糖腺苷卧晓,還可用于帶狀皰疹芬首,EB病毒,及免疫缺陷者并發(fā)水痘等感染逼裆。
      功用作用郁稍,口服吸收率低(約15%)。按5mg/kg和10mg/kg靜脈滴注1小時(shí)后胜宇,平均穩(wěn)態(tài)血漿藥物濃度分別為9.8μg/ml和20.7μg/ml耀怜,經(jīng)7小時(shí)后谷濃度分別為0.7μg/ml和2.3μg/ml。1歲以上兒童掸屡,用量為250mg/m2者其血漿藥物濃度變化與成人5mg/kg用量者相近封寞,而用量為500mg/m2者與成人10mg/kg用量者相近。
新生兒(3月齡以下)仅财,每8小時(shí)靜滴10mg/kg狈究,每次滴注持續(xù)1小時(shí),其穩(wěn)態(tài)峰濃度為13.8μg/ml盏求,而谷濃度則為2.3μg/ml抖锥。腦脊液中藥物濃度可達(dá)血漿濃度的50%。按200mg或400mgl次劑量口服碎罚,每4小時(shí)用藥1次磅废,給藥5天,測(cè)得生物利用度為15%~20%荆烈。

       應(yīng)用200mg劑量者拯勉,平均血漿峰濃度為0.56μg/ml竟趾,谷濃度為0.29μg/ml。服400mg者峰濃度為1.2μg/ml宫峦,谷濃度為0.62μg/ml岔帽。大部分體內(nèi)藥物以原形自尿排泄,尿中尚有占總量14%的代謝物导绷。部分藥物隨糞排出犀勒。正常人的t1/2為2.5小時(shí);肌酐清除率每分鐘15~50ml/1.73m2者t1/2為3.5小時(shí)妥曲,無尿者可延長到19.5小時(shí)贾费。臨床應(yīng)用于防治單純皰疹病毒HSV1和HSV2的皮膚或粘膜感染,還可用于帶狀皰疹病毒感染檐盟。尚用于治療乙型肝炎褂萧。

阿昔洛韋結(jié)晶體研磨分散機(jī),阿昔洛韋研磨分散機(jī),阿糖腺苷研磨分散機(jī)遵堵,原料藥濕法研磨分散機(jī)箱玷,嘌呤核苷衍生物濕法研磨分散機(jī)。陌宿。。公司有樣機(jī)可以免費(fèi)測(cè)試驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)波丰。更多詳情請(qǐng)致電 上海依肯 IKN 銷售經(jīng)理 徐工 182-0189-1183.
     
     粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達(dá)到互相包裹壳坪,近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是掰烟,在某一能量水平上爽蝴, 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達(dá)到動(dòng)態(tài)的平衡。
      目國內(nèi)市場(chǎng)上大多數(shù)的濕法粉碎機(jī)廠家生產(chǎn)出來的濕法粉碎機(jī)轉(zhuǎn)速只能達(dá)到3000rpm左右纫骑,的  當(dāng)然我所說的XX濕法粉碎機(jī)機(jī)的結(jié)構(gòu)大都都是直連電機(jī)或者分體式 蝎亚,粉碎機(jī)的主軸和電機(jī)直連,電機(jī)就決定了主軸的轉(zhuǎn)速先馆。
       IKN分體式濕法粉碎機(jī)機(jī)通過皮帶傳送发框,可實(shí)現(xiàn)2到3倍的加速,同時(shí)立式直立的轉(zhuǎn)軸煤墙,運(yùn)轉(zhuǎn)穩(wěn)定性大大提高梅惯,同時(shí)轉(zhuǎn)子動(dòng)平衡性得到提高,間隙也允許縮小而不產(chǎn)生摩擦仿野。因此立式濕法粉碎機(jī)機(jī)有XX的乳化分散粉碎效果铣减。根據(jù)其定轉(zhuǎn)子剪切的原理,還可以實(shí)現(xiàn)固體物料在液體介質(zhì)中的粉碎脚作,超細(xì)物料的均勻分散葫哗,以及加速大分子物質(zhì)的溶解。經(jīng)過特別設(shè)計(jì)的高剪切膠體磨 也可以成為反應(yīng)發(fā)生的場(chǎng)所,比如兩種液體物料反應(yīng)生成固體顆粒劣针,通過分別通入腔體校镐,兩種物料接觸時(shí)被剪切成微滴,均勻混合后反應(yīng)生成的粒子大小均勻酿秸,并且粒徑很小灭翔。
      IKN膠體磨由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力辣苏,透過定肝箱、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力稀蟋、高頻振動(dòng)等物理作用煌张,使物料被有效地乳化、分散和粉碎退客,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果

 

阿昔洛韋結(jié)晶體研磨分散機(jī)骏融,阿昔洛韋研磨分散機(jī),阿糖腺苷研磨分散機(jī),原料藥濕法研磨分散機(jī)萌狂,嘌呤核苷衍生物濕法研磨分散機(jī)采購須知 档玻,阿昔洛韋結(jié)晶體研磨分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。第yi由具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽茫藏。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離误趴。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向务傲。第二由轉(zhuǎn)定子組成凉当。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面售葡,特別要引起注意的是:在粗精度看杭、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列挟伙,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣楼雹。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能像寒。根據(jù)以往的慣例烘豹,依據(jù)以的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下诺祸,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的携悯,因而它對(duì)制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用筷笨。
    
     CMSD2000系列的線速度很高憔鬼,剪切間隙非常小龟劲,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈轴或,結(jié)果就是通常所說的濕磨昌跌。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽照雁。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離蚕愤。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向饺蚊。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料萍诱,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等:化工污呼、衛(wèi)生I裕坊、衛(wèi)生II、無菌
電機(jī)形式:普通馬達(dá)燕酷、變頻調(diào)速馬達(dá)籍凝、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)苗缩、
電源選擇: 380V/50HZ饵蒂、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)酱讶、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 苹享、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐浴麻、排污閥、變頻器囤攀、電控箱软免、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭焚挠、螺口膏萧、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機(jī)(膠體磨+分散機(jī))

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMSD 2000/4

300

14,000

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10,500

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7,200

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4,900

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2,850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%蝌衔。

更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54

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