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CMSD2000系列研磨分散(膠體磨)設(shè)備特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)分散機(jī)進(jìn)行改裝铜靶,我們將三變跟為一叔遂,然后在均質(zhì)頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料争剿,然后再經(jīng)過(guò)均質(zhì)將物料分散乳化均質(zhì)已艰。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G蚕苇,4M哩掺,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)
CMSD膠體磨設(shè)備選型表:
膠體磨 | 流量* | 輸出 | 線(xiàn)速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性涩笤,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%嚼吞。 |
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更新時(shí)間:2024/12/4 14:39:36
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