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納米硅復(fù)合負(fù)材料研磨分散機,新型鋰電負(fù)漿料分散機是將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備潦牛,先研磨后分散眶掌,先將鋰電池漿料的團聚體先打開,然后再進行分散巴碗。IKN研磨分散機在國內(nèi)多家大型鋰電池廠家都有著突出的應(yīng)用朴爬。
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CMSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品具滴。第yi由具有經(jīng)細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽凹嘲。定子可以無線制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向构韵。第二由轉(zhuǎn)定子組成周蹭。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
適用工藝:CMSD研磨分散機適用于高經(jīng)細(xì)度的分散贞绳、均質(zhì)谷醉、乳化、混合冈闭、破碎俱尼、速度快、效率高萎攒、效果好遇八。在納米研磨分散機運作的過程中,轉(zhuǎn)軸以及轉(zhuǎn)軸上各個零部件都是處于高速運轉(zhuǎn)的狀態(tài)耍休,研磨定轉(zhuǎn)子部分會帶動研磨介質(zhì)與物料產(chǎn)生強烈的碰擦與撞擊刃永,以起到磨細(xì)物料和分散聚體的作用。同時羊精,物料經(jīng)過研磨后斯够,通過泵葉的巨大吸力,使其被吸出研磨籃喧锦,然后再由分散盤對其進行分散處理读规,這樣就可以在很短的時間內(nèi)獲得理想的研磨效果。
ikn研磨分散機為通用混合燃少、分散束亏、研磨的設(shè)備,經(jīng)過混合阵具、分散碍遍、研磨后的物料能夠保持在容器內(nèi)均勻分散,終保持物品的質(zhì)量一致阳液,不會因為物料分布不均勻造成產(chǎn)品質(zhì)量問題怕敬。可以在360度進行回轉(zhuǎn)帘皿,采用無變速赖捌,ikn研磨分散機的外表美觀,升降系統(tǒng)平穩(wěn)靈活,而且操作起來十分方便越庇,結(jié)構(gòu)也非常的牢固罩锐、耐用。分散機的品種十分齊全卤唉,可以滿足用戶各種不同的生產(chǎn)需求涩惑。液壓升降型特別適用于大功率的研磨和細(xì)化,升降起來平穩(wěn)桑驱,結(jié)構(gòu)十分牢固竭恬,并且使用壽用長。研磨分散機能夠根據(jù)工藝的要求熬的,選擇防爆型或者普通型痊硕。分散機架體采用碳鋼刷的色漆,也可定制成不銹鋼表面的拋光押框。
CMSD2000系列新型硅碳鋰電漿料研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | |
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | |
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)岔绸。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
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更新時間:2024/12/16 9:49:40
標(biāo)簽:納米硅復(fù)合負(fù)材料研磨分散機 納米硅復(fù)合負(fù)材料分散機 硅碳復(fù)合分散機