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產(chǎn)品展示
  • 產(chǎn)品名稱:納米硅復(fù)合負(fù)材料研磨分散機
  • 產(chǎn)品型號:CMSD2000
  • 產(chǎn)品價格:129800
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國大陸
  • 訪問次數(shù):160 發(fā)布時間:2022/11/4 23:42:37
  • 簡介內(nèi)容:CMSD改進型膠體磨分散機 濕法粉碎機 線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形,具有精細(xì)度遞升的三鋸齒凸起和凹槽序仙。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下鲁豪,凹槽在每都可以改變方向潘悼。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料律秃,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
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詳細(xì)內(nèi)容

納米硅復(fù)合負(fù)材料研磨分散機

 納米硅復(fù)合負(fù)材料研磨分散機治唤,納米硅復(fù)合負(fù)材料分散機棒动,硅碳復(fù)合分散機,高剪切硅碳材料分散機宾添,超微硅碳研磨分散機船惨,分體式組裝型分散機新型鋰電負(fù)漿料分散機細(xì)化作用一般來說要強于均質(zhì)機缕陕,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度粱锐、大顆粒),所以在很多場合下扛邑,應(yīng)用于難分散怜浅,且對分散要求,粒徑要求較高的漿料制備蔬崩。             納米硅復(fù)合負(fù)材料的制備方法恶座, 其中納米硅/石墨復(fù)合顆粒與石墨烯的復(fù)合是采用粉體表面修飾法復(fù)合制備。本發(fā)明采用 粉體表面修飾進行復(fù)合可實現(xiàn)納米娃/石墨復(fù)合顆粒與石墨稀的復(fù)合沥阳,并結(jié)合均相包覆技 術(shù)實現(xiàn)硅跨琳、石墨、石墨烯沪袭、導(dǎo)電碳的多元復(fù)合。
納米硅復(fù)合負(fù)材料制備方法:
1將石墨粉末與納米硅粉在醇系介質(zhì)中液相復(fù)合樟氢,得到驅(qū)體冈绊;2將石墨烯涂覆在所述驅(qū)體表面,得到第二驅(qū)體埠啃;3死宣、將所述第二驅(qū)體進行包覆改性,燒結(jié)碴开,得到硅復(fù)合負(fù)材料毅该;

納米硅復(fù)合負(fù)材料研磨分散機,新型鋰電負(fù)漿料分散機是將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備潦牛,先研磨后分散眶掌,先將鋰電池漿料的團聚體先打開,然后再進行分散巴碗。IKN研磨分散機在國內(nèi)多家大型鋰電池廠家都有著突出的應(yīng)用朴爬。

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  CMSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品具滴。第yi由具有經(jīng)細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽凹嘲。定子可以無線制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向构韵。第二由轉(zhuǎn)定子組成周蹭。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

  適用工藝:CMSD研磨分散機適用于高經(jīng)細(xì)度的分散贞绳、均質(zhì)谷醉、乳化、混合冈闭、破碎俱尼、速度快、效率高萎攒、效果好遇八。在納米研磨分散機運作的過程中,轉(zhuǎn)軸以及轉(zhuǎn)軸上各個零部件都是處于高速運轉(zhuǎn)的狀態(tài)耍休,研磨定轉(zhuǎn)子部分會帶動研磨介質(zhì)與物料產(chǎn)生強烈的碰擦與撞擊刃永,以起到磨細(xì)物料和分散聚體的作用。同時羊精,物料經(jīng)過研磨后斯够,通過泵葉的巨大吸力,使其被吸出研磨籃喧锦,然后再由分散盤對其進行分散處理读规,這樣就可以在很短的時間內(nèi)獲得理想的研磨效果。

  ikn研磨分散機為通用混合燃少、分散束亏、研磨的設(shè)備,經(jīng)過混合阵具、分散碍遍、研磨后的物料能夠保持在容器內(nèi)均勻分散,終保持物品的質(zhì)量一致阳液,不會因為物料分布不均勻造成產(chǎn)品質(zhì)量問題怕敬。可以在360度進行回轉(zhuǎn)帘皿,采用無變速赖捌,ikn研磨分散機的外表美觀,升降系統(tǒng)平穩(wěn)靈活,而且操作起來十分方便越庇,結(jié)構(gòu)也非常的牢固罩锐、耐用。分散機的品種十分齊全卤唉,可以滿足用戶各種不同的生產(chǎn)需求涩惑。液壓升降型特別適用于大功率的研磨和細(xì)化,升降起來平穩(wěn)桑驱,結(jié)構(gòu)十分牢固竭恬,并且使用壽用長。研磨分散機能夠根據(jù)工藝的要求熬的,選擇防爆型或者普通型痊硕。分散機架體采用碳鋼刷的色漆,也可定制成不銹鋼表面的拋光押框。
CMSD2000系列新型硅碳鋰電漿料研磨分散機設(shè)備選型表

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

 

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

 

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

 

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

 

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

 

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

 

41

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

 

41

160

DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)岔绸。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

納米硅復(fù)合負(fù)材料研磨分散機橡伞,納米硅復(fù)合負(fù)材料分散機盒揉,硅碳復(fù)合分散機,高剪切硅碳材料分散機兑徘,超微硅碳研磨分散機刚盈,分體式組裝型分散機

更新時間:2024/12/16 9:49:40

標(biāo)簽:納米硅復(fù)合負(fù)材料研磨分散機   納米硅復(fù)合負(fù)材料分散機   硅碳復(fù)合分散機   

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