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產(chǎn)品展示
  • 產(chǎn)品名稱:實驗室納米研磨分散機恨锚,納米研磨分散機宇驾,研磨分散機
  • 產(chǎn)品型號:CM2000
  • 產(chǎn)品價格:118900
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國大陸
  • 訪問次數(shù):157 發(fā)布時間:2022/10/29 22:55:02
  • 簡介內(nèi)容:實驗室納米研磨分散機,納米研磨分散機猴伶,研磨分散機CMD2000/4是一款應(yīng)用于實驗室小試和中試的設(shè)備课舍,集研磨、分散他挎、均質(zhì)筝尾、乳化于一體,在多個域和行業(yè)有著突出的應(yīng)用办桨。如化工行業(yè):白炭黑筹淫、環(huán)氧樹脂等超細研磨分散機;食品行業(yè):植物蛋白飲料呢撞、膠原蛋白提取等损姜;都可以獲得良好的研磨分散細化的效果。
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實驗室納米研磨分散機殊霞,納米研磨分散機摧阅,研磨分散機

實驗室納米研磨分散機,納米研磨分散機绷蹲,研磨分散機
   CMD2000/4是一款應(yīng)用于實驗室小試和中試的設(shè)備棒卷,集研磨、分散祝钢、均質(zhì)比规、乳化于一體,在多個域和行業(yè)有著突出的應(yīng)用太颤。如化工行業(yè):白炭黑苞俘、環(huán)氧樹脂等超細研磨分散機;食品行業(yè):植物蛋白飲料龄章、膠原蛋白提取等;都可以獲得良好的研磨分散細化的效果乞封。
   CMD2000/4納米實驗室研磨分散機做裙,電機功率:2.2kw,轉(zhuǎn)速高達14000rpm肃晚,處理在0-200L锚贱,設(shè)備體積較小,可直接放置實驗臺上操作关串。為實驗室研發(fā)拧廊,模擬生產(chǎn)流程监徘,為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機器和大型量產(chǎn)機型配置相同吧碾,且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同凰盔,中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整,而將機器型號升過程中的風險降到倦春。


實驗室納米研磨分散機户敬,納米研磨分散機,研磨分散機
  CMD2000/4納米實驗室研磨分散機是由膠體磨+分散機一體化而成的設(shè)備睁本,先研磨后分散尿庐,效率高效果好。CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品呢堰,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料抄瑟。我們將三高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三變跟為一枉疼,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭皮假,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)往衷。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P钞翔,2G,4M席舍,6F布轿,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
  先由具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離来颤。在增強的流體湍流下汰扭,凹槽在每都可以改變方向。第二由轉(zhuǎn)定子組成福铅。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要萝毛。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度滑黔、中等精度笆包、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣略荡。狹槽數(shù)庵佣、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
納米實驗室中試型膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機汛兜,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度巴粪、大顆粒),所以在很多場合下,實驗室中試型膠體磨用于均質(zhì)機的道或者用于高粘度的場合肛根。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化辫塌。物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進料和輸送時,須選用壓力或輸送泵進料或送料派哲,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配臼氨。

  CM2000/4納米實驗室中試型膠體磨是門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)狮辽。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的線速度很高一也,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候喉脖,形成的摩擦力就比較劇烈椰苟,結(jié)果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形树叽,具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽舆蝴。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下题诵,凹槽在每都可以改變方向洁仗。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求性锭。

  公司另外一項獨特的創(chuàng)新赠潦,就是錐體磨CMO2000系列,它的設(shè)計使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進了一步草冈。由于這項創(chuàng)新她奥,CMO2000能夠濕磨和研磨,產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小怎棱。研磨間隙可以無調(diào)節(jié)哩俭,從而可以得到精確的研磨參數(shù)。研磨頭的表面涂上了一層其堅硬的硬質(zhì)材料拳恋,從而使其表面具有非常粗糙的紋理凡资。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成谬运,并且具有不同的粒徑隙赁。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域,可以輸送高粘度和低粘度物料梆暖,但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想鸳谜。

它們的主要區(qū)別:
  CM2000/4(LP系列)為實驗室膠體磨的技術(shù)參數(shù):功率1.5-2.2KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時(水),重量35KG,尺寸 (長寬高)(450250350)MM式廷,LP使用軸封(PTFE 環(huán)),在正常的情況下芭挽,一般軸封可以使用3000-4000次滑废。LP不能24小時連續(xù)使用蝗肪,一般多可以使用連續(xù)半個小時,這要依據(jù)料液的溫度和轉(zhuǎn)速而定蠕趁。LP也可以通過變換模塊薛闪,可以實現(xiàn)多功能多用途。是中試生產(chǎn)的選擇俺陋。
  CM2000/4(PP系列)為中試型膠體磨的技術(shù)參數(shù):功率2.2-4 KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s豁延,電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時(水),重量45KG, 尺寸 (長寬高)((450250350)MM腊状,PP使用雙機械密封诱咏,可24小時不停機連續(xù)生產(chǎn),并通冷媒對密封部分進行冷卻缴挖。通過變換模塊袋狞,可以實現(xiàn)多功能多用途。機械密封和機械設(shè)計符合3A健康標準映屋,是中試和小批量生產(chǎn)的選擇苟鸯。

實驗室納米研磨分散機,納米研磨分散機棚点,研磨分散機

更新時間:2024/12/16 9:49:40

標簽:實驗室納米研磨分散機   納米研磨分散機   研磨分散機   

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