實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)工作原理

閱讀次數(shù)：3305    發(fā)布時(shí)間：2022/11/21 14:59:18

   CMD2000/4是一款應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室小試和中試的設(shè)備叹洲，集研磨、分散爬骤、均質(zhì)侈百、乳化于一體，在多個(gè)域和行業(yè)有著突出的應(yīng)用觅丰。如化工行業(yè)：白炭黑饵溅、環(huán)氧樹脂等超細(xì)研磨分散機(jī)；食品行業(yè)：植物蛋白飲料妇萄、膠原蛋白提取等蜕企；都可以獲得良好的研磨分散細(xì)化的效果。
   CMD2000/4納米實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)冠句，電機(jī)功率：2.2kw轻掩，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，處理在0-200L懦底，設(shè)備體積較小唇牧，可直接放置實(shí)驗(yàn)臺(tái)上操作。為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)聚唐，模擬生產(chǎn)流程丐重，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同杆查，且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同扮惦，中試過(guò)程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機(jī)器型號(hào)升過(guò)程中的風(fēng)險(xiǎn)降到亲桦。



  CMD2000/4納米實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)是由膠體磨+分散機(jī)一體化而成的設(shè)備崖蜜，先研磨后分散，效率高客峭。CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品豫领，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝舔琅，我們將三變跟為一等恐，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料搏明，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)鼠锈。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G星著，4M购笆，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
  先由具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽虚循。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離同欠。在增強(qiáng)的流體湍流下样傍，凹槽在每都可以改變方向。第二由轉(zhuǎn)定子組成铺遂。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要衫哥。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度襟锐、中等精度撤逢、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣粮坞。狹槽數(shù)蚊荣、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
納米實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要弱于均質(zhì)機(jī)莫杈，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度互例、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下筝闹，實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨用于均質(zhì)機(jī)的道或者用于高粘度的場(chǎng)合媳叨。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí)关顷，須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料糊秆，輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配。

  CM2000/4納米實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨是門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)解寝，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)扩然。 CM2000/4實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小聋伦，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈界睁，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨觉增。 CM2000/4實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽翻斟。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離逾礁。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向访惜。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料嘹履，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

  公司另外一項(xiàng)獨(dú)特的創(chuàng)新债热，就是錐體磨CMO2000系列砾嫉，它的設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)創(chuàng)新窒篱，CMO2000能夠濕磨和研磨焕刮，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小舶沿。研磨間隙可以無(wú)限調(diào)節(jié)，從而可以得到小的研磨參數(shù)配并。研磨頭的表面涂上了一層其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料括荡，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物溉旋、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成畸冲，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個(gè)具有強(qiáng)烈剪切的區(qū)域观腊，可以輸送高粘度和低粘度物料邑闲，但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。

它們的主要區(qū)別：
  CM2000/4（LP系列）為實(shí)驗(yàn)室膠體磨的技術(shù)參數(shù)：功率1.5-2.2KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機(jī)器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時(shí)（水）恕沫，重量35KG,尺寸 (長(zhǎng)寬高）(450250350)MM监憎，LP使用軸封（PTFE 環(huán)），在正常的情況下婶溯，一般軸封可以使用3000-4000次鲸阔。LP不能24小時(shí)連續(xù)使用，一般多可以使用連續(xù)半個(gè)小時(shí)迄委，這要依據(jù)料液的溫度和轉(zhuǎn)速而定褐筛。LP也可以通過(guò)變換模塊，可以實(shí)現(xiàn)多功能多用途叙身。是中試生產(chǎn)的選擇渔扎。
  CM2000/4（PP系列）為中試型膠體磨的技術(shù)參數(shù)：功率2.2-4 KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s，電壓380V,機(jī)器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時(shí)（水）信轿，重量45KG, 尺寸 (長(zhǎng)寬高）((450250350)MM晃痴，PP使用雙機(jī)械密封，可24小時(shí)不停機(jī)連續(xù)生產(chǎn)财忽，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻倘核。通過(guò)變換模塊，可以實(shí)現(xiàn)多功能多用途即彪。機(jī)械密封和機(jī)械設(shè)計(jì)符合3A健康標(biāo)準(zhǔn)紧唱，是中試和小批量生產(chǎn)的選擇。

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原創(chuàng)作者：上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司